• 基于高度集成化光学技术：挚感光子利用集成光学技术，将光学相干光路、调制光路等集成在单个光电芯片上，克服传统分立式元器件体积过大等缺点，并通过一体化封装将光电芯片、激光器、探测器、相位调制器、光学镜头等集成在一个光学模组里；

• 小型化、低成本；

• 高精度、易操作；

• 挚感光子从芯片设计到光模组封装拥有完整的自主知识产权，高度集成化且一体化的设计有利于大规模生产，同时有利于用户系统集成；

• 基于调频连续波（FMCW）的相干接收原理，挚感光子研发出独有专利的调制解调技术，可以实现超高精度的测量；同时将干涉仪的参考光路内置于干涉仪中，内置数据处理单元和运算单元，极大提升了干涉仪安装调试过程的便捷性。

超高精度位置跟踪：在光刻过程中，分辨率是反映光刻机理论上可识别的最小特征尺寸的重要指标，也决定着运动系统的控制精度。由于整个曝光过程中要求系统以恒定的速度运行，对速度的均匀性要求较高，因此对控制的精度要求更为苛刻。通常情况下，匀速性由跟踪误差反映，无掩模扫描式光刻系统的控制要满足纳米级精度，工件台自身的控制也要求达到该数量级。并且工件台控制系统的跟踪定位精度也是影响套刻精度的重要因素，可预防反复曝光芯片刻蚀过程中发生偏离导致电路图案扭曲、影响芯片性能。

平面检测：在光刻测量过程中，硅片在高速运动情况下易发生形变，从而影响硅片的平面度，降低光刻精度。为了优化硅片平台的操作模式，需要一种纳米级超高精度、无接触的形变量测量方式。

* 定制产品，在稳定环境中测量